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サービス内容

清掃

クリーンルーム清掃(クリーンルーム内精密清掃)

近年、半導体工場をはじめとした多くの施設では、クリーンルームの重要性がますます高まっています。 ソニーグループ内の各テクノロジーセンターや各工場においても、クラス1000~クラス1といった高い清浄度を誇るクリーンルームが稼動しています。

私たちCSBは、これらクリーンルームの新設工事時、改修工事時の【竣工精密清掃】や、クリーンルーム稼動後に発生した「ほこり」「汚れ」の除去を目的とした、定期的な【メンテナンス精密清掃】の施工を行なっています。

熟練したプロフェッショナルによる一貫した安全管理・工程管理・品質管理のもと、お客様に満足していただくサービスを提供し続けています。

 
クリーンルーム内の清浄度
クリーンルーム内の清浄度

(クリーン度、空間のキレイさ)
を保つためには、 日常から
【清浄度維持の四原則】
を遵守することが大切です。

  1. ほこりを持ち込まない
  2. ほこりを排除する
  3. ほこりを発生させない
  4. ほこりを堆積させない

私たちCSBでは、精密清掃の施工段階から、この四原則を徹底し、よりクリーンな空間の創出に力を尽くしています。

クリーンルーム清掃風景

クリーンルーム清掃風景 クリーンルーム清掃風景
クリーンルーム清掃風景 クリーンルーム清掃風景
 

クリーンルームの定義は、日本ではJIS規格によって規定されていますが、わかりやすく言えば『空気中の浮遊微粒子(ほこり)や浮遊微生物(細菌など)が、所定量以下に制御・維持されている室内空間』となります。
クリーンルームの室内用途に応じて、清浄度・温湿度・気流などが総合的にコントロールされ、無塵・無菌に近い清浄空間が維持されます。

清浄度の規格(クラス)は、空気中の浮遊微粒子の数によって決められています。一般的な基準粒子の大きさは0.5ミクロン。直径0.5ミリのシャープペン芯の100分の1の大きさの粒子が、一定の基準空間内にどれだけ許容されるかによってクラス分けされています。
近年では半導体製品などの小型化によって、基準粒子も0.1~0.3ミクロンなど、より微小なものに変わりつつあります。

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ダウンフロー方式

天井面にHEPAフィルタを配し、FFUにより垂直方向に吹き出して、床全面で吸込み循環させる方式。
発塵物はすぐに床下に除去され、室のどの位置でも高い清浄度が得られる。設備コストは高く、管理も他に比べて容易ではない。

《対象清浄度》

クラス:1~100(FED-STDによる)

 

乱流方式

天井の部分吹出口から、下方に吹き出して空気循環させる方式。
各吹出口にはHEPAフィルタが備わる。
壁面下方の吸込口より、室内空気を循環させる。
もっとも一般的な方法で設備コストも安く、管理も容易。低清浄度のクリーンルームで主流といえる。

《対象清浄度》

クラス:1000~10万(FED-STDによる)

 

その他 ご要望に応じて相談承ります

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